ساخت و مشخصه یابی لایه های نازک کربن الماس گونه (dlc) با ساختارهای نانویی به روش tcvd و hwcvd

در این تحقیق، ساخت و مشخصه یابی لایه های نازک کربن الماس گونه (dlc)، نانو بلور کربن الماس گونه (ncdlc)، کربن الماس گونه بی شکل(dlac) و به طور کلی کربن های الماس گونه نانو ساختار، همچنین الماس بس بلور (pcd) انجام گردیده است. این فیلم ها با استفاده از دو روش رسوب گذاری بخار شیمیایی حرارتی (tcvd) و سیم ملتهب (hwcvd) تولید شده اند. دو زیر لایه فولاد زنگ نزن نوع 316 و سیلیکون به دلیل کاربرد بسیار زیاد و حیاتی آنها در صنایع مکانیکی و الکترونیکی و دیگر دلایل، برای لایه نشانی توسط کربن الماس گونه نانو بلور، الماس بس بلور و بی شکل و نانو ساختار انتخاب شده اند. لایه های نازک الماسی و کربن الماس گونه به دلیل خواص ایده آل بسیار زیادشان در حوزه های مختلف در این تحقیق مورد کاوش قرار گرفته اند. از جمله خواص این لایه ها سختی بالا و خواص اپتیکی آنها بوده است که با استفاده از دو روش مشخصه یابی میکرو سختی سنجی(microhardness test) و طیف سنجی مادون قرمز(ft-ir) مورد بررسی قرار گرفته اند. برای مشخصه یابی فیلم ها و تشخیص میزان بلورینگی آنها اعم از نانو، میکرو یا بی شکل نانو ساختار، از روش طیف سنجی رامان(raman) استفاده شده است. همچنین از روش های عکس برداری میکروسکوپ نوری، میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) و الگوی پراش اشعه ایکس (xrd) نیز برای مشخصه یابی لایه های نازک فوق استفاده شده است. نتیجه این تحقیق دستیابی به سختی تا حدود شش برابر سختی فولاد زنگ نزن نوع 316 و مشخصات بسیار خوب اپتیکی لایه های نازک ساخته شده، بوده است.